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超強激光科學卓越創新簡報

(第五十六期)

2019年11月3日

上海光机所論文被评为第三届國際先進光刻技術研討會最佳学术論文

  1018日,由集成電路産業技術創新聯盟和中國光學學會主辦,中國科學院微電子研究所、南京市浦口高新區和南京市浦口區科學技術局承辦的第三屆國際先進光刻技術研討會在南京市成功舉辦。 

  大會主席、集成電路産業技術創新聯盟理事長、科技部原副部長曹健林,國家科技重大專項電子信息領域監督評估組組長、國家外國專家局原局長馬俊如,大會副主席、中國科學院微電子研究所所長、國家02科技重大专项技术总师叶甜春等分别致辞。大会秘书长、中科院微电子研究所计算光刻研发中心主任韦亚一研究员主持开幕式。来自中国、美国、德国、日本等世界各地众多名企、厂商、科研機構、高校的共计400余名技术专家和学者参加了本届大会。 

  我所王向朝研究員帶領團隊參加了會議並擔任國際咨詢委員會委員、大會session chair。上海光機所在本次會議上共發表5篇学术論文,其中,成维、李思坤*、王向朝*、张子南的論文"Profile reconstruction method for multilayer defect in Extreme Ultraviolet Lithography"获得大会唯一“最佳論文奖”。 

  國際先進光刻技術研討會www.iwaps.org是國內首個高端光刻技術研討會,已連續舉辦三屆。本屆大會延續了往屆的高規格和高水准,已成爲共享國內外先進光刻技術研發成果,促進我國集成電路制造技術研發與應用,開展合作與交流的高端峰會。報告內容總結等更多會議情況請參閱“光刻人的世界”微信公衆號:https://mp.weixin.qq.com/s/35-U-HNUWz_q33-zokOXew以及會議官方網站.(信息光學與光電技術實驗室供稿) 

上海光機所參會人員合影

頒獎現場

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